本报北京2月1日电记者吕贤如从日前召开的中国新材料市场年会获悉,2006年我国新材料领域获得多项重要成就,成为该领域年度最具影响力事件。年会由北京新材料发展中心、新材料产业杂志和赛迪顾问股份有限公司联合主办。
这些成就主要有:
多晶硅是全球电子工业及光伏产业的基石。在发达国家厂商几
中国科学院理化技术研究所科研人员,攻克了计算机直接制版(CTP)技术的瓶颈――实现了版材国产化,并在多家单位成功试用,标志着我国打破了跨国公司的垄断,掌握了具有自主产权的下一代印刷技术。CTP技术是将数字页面直接通过激光束扫描曝光到CTP板材上,经过快速加工处理即可印刷,省去了激光照排环节,制版时间可大大缩短。
国内最大的砷化镓材料生产基地――中科晶电信息材料(北京)有限公司投产。这对于打破国际砷化镓晶片市场格局,推动我国半导体材料基础产业发展,具有战略意义。砷化镓是继硅单晶之后第二代新型化合物半导体材料中重要而用途广泛的材料之一,在微电子和光电子领域应用空间巨大。
在有关部门大力支持下,中国蓝星(集团)总公司100%收购法国罗地亚公司有机硅业务在北京签字。并购后,蓝星将成为中国在欧洲最大的境外投资企业,蓝星有机硅单体生产能力将达到42万吨,从世界第六跻身世界第三。这标志着我国经过10年发展,跻身世界有机硅强国行列。